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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
CRF-APS- 500W
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立即咨詢等離子清洗機，又名等離子處理機，等離子表面處理設備。其基本原理是：在清理過程中，由工作中氣體在磁場的作用下所激起的等離子體與物件表層產生物理學和化學變化。物理反應原理是活性顆粒轟擊待清理表層，使污染物擺脫表層，污染物被排出；化學變化原理是各種各樣活性顆粒與污染物反應形成揮發物化學物質抽出，進而做到清理目的。一般用以氫、氮、氧、氬等工作氣體。
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20年自主研發經驗 500強企業案例 多項技術專利認證
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專業的研發團隊
擁有多名從業十多年的組裝工程師
先進的設備
認真對待每一次設備試驗
嚴格的質量控制
設備出廠前連續24小時運行調試
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集研發、制造、銷售以及售后服務為一體的等離子設備高新技術企業
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專注等離子研發20年，服務多種行業
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